不消EUV光刻机也能造极速飞艇5nm芯片?铠侠联袂NDP与佳能

 新闻资讯     |      2021-11-02 05:59

不消EUV光刻机也能造5nm芯片?铠侠联袂NDP与佳本领推NIL技能

2021-10-22 20:24 来历:芯智讯

原标题:不消EUV光刻机也能造5nm芯片?铠侠联袂NDP与佳本领推NIL技能

不用EUV光刻机也能造极速飞艇5nm芯片?铠侠携手NDP与佳能

10月22日动静,在半导体制程技能进入5nm节点之后,EUV光刻机已经成为了不行或缺的要害设备。可是,因为EUV光刻机造价奋发,每台价值高出1亿美元,并且EUV光刻机仅荷兰ASML一家发生可以或许供给,且产能有限,这使得芯片的出产本钱大幅升高。为办理这样的问题,日本存储大厂铠侠(Kioxia) 此刻连系了相助同伴开拓了一种新的NIL制程技能,可以不利用EUV光刻机,就能使制程技能推进到5nm。

按照日本媒体的报导,铠侠从2017 年开始与半导体设备厂佳能,以及光罩等半导体零组件制造商大日本印刷株式会社(DNP)相助,在日本三重县四日市的铠侠工场内研发纳米压印微影(NIL) 的量产技能。当前铠侠已把握15nm的制程量产技能,今朝正在举办15nm以下技能的研发,估量2025 年将进一步告竣。

相较于今朝已商用化的EUV光刻技能,铠侠暗示,NIL 技能可大幅淘汰耗能,并低落设备本钱。原因在于NIL 技能的微影制程较为纯真,耗电量可压低至EUV 技能的10%,并让设备投资低落至仅有EUV 设备的40%。今朝,EUV光刻机只有荷兰ASML一家可以或许出产供给,其不单价值高,并且需要很多检测设备的共同。

不外,固然NIL 技能有很多的利益,但现阶段在导入量产上仍有不少问题有待办理,个中包罗更容易因氛围中的细微尘土的影响而形成瑕疵。

报导指出,对铠侠来说,NAND 零组件因为采纳3D 立体堆叠布局,更容易适应NIL技能制程。而铠侠也暗示,当前已办理NIL 的根基技能问题,正在举办量产技能的推进事情,极速飞艇注册,但愿能较其他竞争敌手率先引入到NAND 出产傍边。而一旦铠侠能乐成率先引入NIL 技能并实现量产,有望补充在设备投资比赛中的倒霉排场,又能切合淘汰碳排放的需求。

按照DNP 的说法,NIL 量产技能电路微缩水平可达5nm节点,而DNP 从2021 年春天开始,就已经在按照设备的规格值举办内部的模仿仿真傍边。而对付这样的技能进步,DNP 也透露,从半导体制造商对NIL 量产技能询问度的增加,显示不少厂商对NIL 技能寄予厚望。

另一个相助同伴佳能,也致力于将NIL 量产技能遍及的应用于建造DRAM 及PC 用的CPU 等逻辑芯片的设备上,以在将来供给多的半导体制造商,未来也但愿能应用于手机应用处理惩罚器等最先进制程上。